GTV Beschichtungszentrum zur Beschichtung von Sputter-Targets mittels Mehranoden-Plasma-Verfahren.
Eine Besonderheit stellt die mehrere Zentimeter starke thermische Spritzschicht dar, die durch eine spezielle Innenwasserkühlung des Bauteilträgers ermöglicht wird.
GTV Penta Anlage zur Beschichtung von Sputter-Targets mittels Mehranoden-Plasma-Verfahren.
Die 5-fach radiale Pulverinjektion ermöglicht hohe Pulverförderraten (bis zu 500 g/min) bei gleichzeitig hohen Auftragsraten und dadurch signifikant verkürzten Prozesszeiten. Er wurde speziell für Beschichtungen von Großbauteilen entwickelt und löst den Einsatz mehrerer Standard-Plasmabrenner ab.